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X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品時間:2024-09-12
  • 簡要描述:X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器。卓立漢光能夠提供基于X射線為激發(fā)源的光譜,壽命,成像,光產(chǎn)額的相關(guān)測量方案。能夠提供全套涵蓋X 射線激發(fā)源、光譜儀、穩(wěn)態(tài)及瞬態(tài)數(shù)據(jù)處理、成像測量(CMOS 成像,單像素成像,TFT 面陣成像)、輻射劑量表、輻射安全防護(hù)等,輻射防護(hù)防護(hù)滿足國標(biāo)《低能射線裝置放射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ115-2023)。
  • 產(chǎn)品介紹

閃爍體的光譜、壽命、成像、光產(chǎn)額測量

產(chǎn)品概述

近年來,鈣鈦礦型閃爍體及鈣鈦礦型X射線直接探測器被廣泛研究及報道。在發(fā)光閃爍體層面,鈣鈦礦納米晶閃爍體通過溶液即可制得,成本極低,且具備全色彩可調(diào)諧輻射發(fā)光的特點。在直接探測層面,鉛鹵鈣鈦礦材料因其具備較大的原子序數(shù)、高吸收系數(shù)等優(yōu)點,在X射線直接探測領(lǐng)域同樣表現(xiàn)出非常優(yōu)異的性能。

卓立漢光能夠提供基于X射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光光譜,熒光壽命,瞬態(tài)光譜以及X射線探測成像的相關(guān)測量方案。能夠提供全套涵蓋X射線激發(fā)源、光譜儀、穩(wěn)態(tài)及瞬態(tài)數(shù)據(jù)處理、成像測量(CMOS成像,單像素成像,TFT面陣成像)、輻射劑量表、輻射安全防護(hù)等,輻射防護(hù)防護(hù)滿足國標(biāo)《低能射線裝置放射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ115-2023)。

如下陳述我們幾種測量方案及相關(guān)配置明細(xì)

(一) 穩(wěn)態(tài)光譜及熒光壽命采集

• 基于皮秒X射線和TCSPC測量原理的方法

• 納秒脈沖X射線

• 穩(wěn)態(tài)和壽命測量數(shù)據(jù)

(二)X射線探測成像

• X射線探測成像光路圖

• X射線探測成像及脈沖X射線實現(xiàn)光電流衰減測量

• TFT集成的面陣X射線成像

• 成像測量結(jié)果

(三)技術(shù)參數(shù)

穩(wěn)態(tài)光譜及熒光壽命采集

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

基于皮秒X射線和TCSPC測量原理的方法

包含:皮秒脈沖激光器、光激發(fā)X射線管、TCSPC或條紋相機(jī)。

由皮秒脈沖激光器激發(fā)“光激發(fā)X射線管"發(fā)射出X-ray作用于樣品上,樣品發(fā)射熒光,經(jīng)光譜儀分光之后,由探測器探測光信號,數(shù)據(jù)采集器讀取數(shù)據(jù)。

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

皮秒X射線測量熒光壽命原理圖

納秒脈沖X射線

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

150KV納秒脈沖X射線

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

*安全距離要求:a:3米,b:6米,c:30米

穩(wěn)態(tài)和壽命測量數(shù)據(jù)

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

NaI 樣品在管電壓50KeV,不同管電流激發(fā)下的輻射發(fā)光光譜
X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

納秒X 射線激發(fā)的熒光衰減曲線

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

X射線探測成像

X射線探測成像光路圖

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

X射線探測成像及脈沖X射線實現(xiàn)光電流衰減測量

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

TFT集成的面陣X射線成像

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器
TFT傳感芯片規(guī)格

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器
TFT讀取系統(tǒng)規(guī)格

成像測量結(jié)果

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

CMOS 成像實物圖
X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

分辨率指標(biāo):TYP39分辨率卡的X射線圖像。測試1mm厚的YAG(Ce)時,分辨率可以優(yōu)于20lp/mm

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

手機(jī)充電頭成像測試

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器
密碼狗成像測試

技術(shù)參數(shù)

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器


光產(chǎn)額測量方案

閃爍晶體的光產(chǎn)額(也稱為光輸出或光子產(chǎn)額)是指晶體在受到電離輻射(如γ射線、X射線或粒子)激發(fā)后,發(fā)射光子(通常是可見光)的數(shù)量。光產(chǎn)額通常以每單位能量沉積產(chǎn)生的光子數(shù)來表示,單位可以是光子/MeV。

光產(chǎn)額是衡量閃爍晶體性能的重要參數(shù)之一,它是衡量閃爍體材料性能的重要指標(biāo)之一,也直接關(guān)系到該材料在實際應(yīng)用中的靈敏度和效率。常見的閃爍晶體包括碘*鈉(NaI),碘*銫(CsI),和氧化鑭摻鈰(LaBr3)等。不同的晶體材料會有不同的光產(chǎn)額,這取決于其發(fā)光機(jī)制、能帶結(jié)構(gòu)、以及材料的純度和缺陷等因素。研究閃爍體材料的光產(chǎn)額對于提高其性能、拓展其應(yīng)用具有重要的意義。

一些常見閃爍晶體的光產(chǎn)額值如下:

碘*鈉(NaI(Tl)):約38,000 photons/MeV

氯化銫(CsI(Tl)):約54,000 photons/MeV

氧化鈰摻雜的氧化鑭(LaBr3):約63,000 photons/MeV

釔鋁石榴石摻雜鈰離子(YAG:Ce):約14,000 photons/MeV

光產(chǎn)額越高,意味著該晶體能夠在相同的能量沉積條件下產(chǎn)生更多的光子,從而在探測器中生成更強(qiáng)的信號,通常也會導(dǎo)致更好的能量分辨率。

卓立漢光提供一整套包含同位素源、屏蔽鉛箱(被測器件及光路)、光電倍增管、高壓電源、閃爍體前置放大器、譜放大器、多道分析儀及測試軟件,實現(xiàn)閃爍體的光產(chǎn)額測量。

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光:熒光光譜分析儀器

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